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淺析光譜電化學(xué)池的工作原理
  • 發(fā)布日期:2017-07-12      瀏覽次數(shù):1763
    •  光譜電化學(xué)是將光譜技術(shù)原位或非原位地用于研究電極/溶液界面的一種電化學(xué)方法。這類研究方法通常以電化學(xué)技術(shù)為激發(fā)信號的同時(shí)可以檢測大量光學(xué)信號,獲得電極/溶液界面分子水平的,實(shí)時(shí)的信息。通過電極反應(yīng)過程中電信息和光信息的同時(shí)測定,可以研究電極反應(yīng)的機(jī)理,電極表面特性,鑒于參與反應(yīng)的中間體和產(chǎn)物性質(zhì),測定電對的克式量電位,電子轉(zhuǎn)移數(shù),電極反應(yīng)速率常數(shù)以及擴(kuò)散系數(shù)等。光譜電化學(xué)方法可以用于電活性,非電活性物質(zhì)的研究,用于電化學(xué)研究的光譜技術(shù)有紅外光譜,紫外可見光譜,拉曼光譜和熒光光譜。  
      光譜電化學(xué)技術(shù),按光的入射方式可分為光透射法,光反射法以及平行入射法。透射法是入射光束垂直橫穿光透電極及其鄰接溶液的方法。反射法包括內(nèi)反射法和鏡面反射法兩種。內(nèi)反射法是入射光束通過光透電極的背后,并滲透到電極和溶液的界面,使其入射角剛好大于臨界角,光線會發(fā)生全反射;鏡面反射法是讓光從溶液一側(cè)入射,到達(dá)電極表面后被電極表面反射。平行入射法,是讓平行光束平行或近似平行地擦過電極和電極表面附近的溶液。  
      光譜電化學(xué)技術(shù),按電極附近的厚度又可分為薄層光譜電化學(xué)方法和半無限擴(kuò)散光譜電化學(xué)方法。薄層光譜電化學(xué)方法涉及的是電解池內(nèi)電活性物質(zhì)的耗竭性電解。一般外加電激發(fā)信號的激發(fā)時(shí)間比較長,列如采用電勢階躍實(shí)驗(yàn)時(shí),采用較長的階躍時(shí)間;如果采用循環(huán)伏安掃描試驗(yàn),則采用較慢的電勢掃描速率等。而半無限擴(kuò)散光譜電化學(xué)方法,如果電解時(shí)間過長易引起濃度梯度而導(dǎo)致溶液對流,一般采用較短的電激發(fā)時(shí)間,常用的電激發(fā)信號有單電勢階躍,單電勢開路弛豫,線性電勢掃描和恒電流方法。 
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